Plakat promujący rekrutację na Uniwersytecie Śląskim na rok akademicki 2019/2020 autorstwa Iwony Cichy został zakwalifikowany do 26. edycji Biennale Plakatu Polskiego, organizowanego przez miasto Katowice i Galerię Sztuki Współczesnej BWA w Katowicach. Konkurs prezentuje twórczość artystów w dziedzinie sztuki plakatowej.
Iwona Cichy jest absolwentką Instytutu Sztuki Uniwersytetu Śląskiego w Katowicach. Obecnie realizuje studia III stopnia w dyscyplinie sztuki piękne na Uniwersytecie Śląskim. Zajmuje się przede wszystkim projektowaniem systemów identyfikacji i komunikacji wizualnej, realizuje także projekty z zakresu typografii, grafiki wydawniczej oraz plakatu.
Wystawę plakatów biorących udział w tegorocznym konkursie można oglądać w Galerii Sztuki Współczesnej BWA w Katowicach do 26 stycznia 2020 roku.
