Do 30 stycznia 2020 roku przyjmowane są prace do konkursu Art & Design Competition 2020 „Mind & Senses in Art & Design” organizowanego w ramach Chińsko-Polskiego Konsorcjum Uniwersyteckiego. Gospodarzem tegorocznej edycji konkursu jest Politechnika Śląska we współpracy z Uniwersytetem Śląskim.
Konkurs adresowany jest do studentów i pracowników uczelni zrzeszonych w Chińsko-Polskim Konsorcjum Uniwersyteckim (Sino-Polish University Consortium – SPUC), a tematem są indywidualne interpretacje i odniesienia do tradycji i współczesności codziennego życia krajów partnerskich konsorcjum, mogące stać się przyczynkiem do wzajemnego poznania i zbliżenia kultur oraz ich promocji. Uczestnicy składają jedną pracę w wybranej przez siebie kategorii tematyczno-warsztatowej.
Szczegółowe informacje dotyczące konkursu, regulamin oraz formularz zgłoszeniowy dostępne są na stronie: www.polsl.pl//artanddesign. Prace konkursowe należy składać́ na Wydziale Architektury Politechniki Śląskiej, ul. Akademicka 7 w Gliwicach.
